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    高真空系統 MFLGZK-16-600

    簡要描述:600系列高真空系統采用機械泵和分子泵組成的系統,真空度可以到10-5次pa

    • 產品型號:
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-12-31
    • 訪  問  量:3965

    詳細介紹

     

    高真空系統MFLGZK-16-600

     

       
     

     

    主要特點

    600*750mm的承重臺面,可配合管式爐使用,節約空間。·極限真空度可達到10-4Pa,滿足大多數高 真空實驗要求。·連接管路采用全不銹鋼,電拋光 制作,零件焊接漏率優于1*10-9Pa.m3/s。·滾輪上裝有制動裝置,提高安全性。

    基本參數

    工作電電壓:220V±10%,50~60HZ ·功率: 1KW·工作環境溫度:5~32℃·空氣相對濕度:

    ≤80%·系統極限真空度:1.0*10-4Pa·抽氣速 率: N2--33 L/s、He--39 L/s、H2--32 L/s

    TVP-9機械泵

    抽氣速率:9L/S·電機功率:0.75KW ·極限4*10-2Pa

    分子泵控制電源

    電壓:200~240V· 輸出功率:150W· 加速間:3分鐘· 輸出頻率:高速704Hz±10%低速430 Hz±10%


    F-160/620C分子泵

    潤滑油量

    150ml

    壓縮比

    N2:10 5 H2:6*104

    啟動時間

    10min

    冷卻水溫度

    25

    輸出頻率

    400Hz+10Hz

    輸出電壓

    120V

    啟動電流

    5A

    工作電流

    2A

    進氣口通徑

    DN160LF

    排氣口通徑

    KF40mm

    抽氣速率

    600L/s

    極限壓強

    6*10-7Pa

    復合真空計

    測量范圍:1.0x10 - 1.0x10-5pa 探測路數:2 路

    顯示方式:LED 數顯功耗:55W

    控制精度:±1%

    響應時間:<1S

     

     

    開啟式真空管式爐是一種廣泛應用于材料科學、物理化學研究以及工業生產的特種加熱設備。它的設計允許在真空或特定氣氛條件下對樣品進行加熱處理,適用于半導體材料生長、納米材料合成、陶瓷燒結、金屬熱處理等多個領域。

    開啟式真空管式爐基本構造
    1.加熱區:通常由電阻絲、石墨或感應線圈構成,負責產生所需的高溫環境。
    2.真空腔體:配備有氣密門,可在真空或惰性氣體環境下操作,確保實驗的純凈度。
    3.溫控系統:包括PID控制器、熱電偶或紅外輻射計,實現溫度的精確調節與監控。
    4.抽氣系統:配置機械泵或渦輪分子泵,抽取爐內空氣,達到所需真空度。
    5.安全防護:設有過熱保護、漏電斷路等機制,保障操作者的安全。

    開啟式真空管式爐主要特征
    1.氣氛可控:可選擇不同氣體填充,適應不同的實驗條件。
    2.操作靈活:開啟式設計便于樣品裝載,節省時間和勞動強度。
    3.結構緊湊:占地面積小,適合實驗室空間有限的情況。

    開啟式真空管式爐應用領域
    1.新材料開發:合成新型半導體材料,如碳納米管、石墨烯等。
    2.金屬合金制備:在真空中熔煉合金,去除雜質,改善性能。
    3.催化作用研究:探索催化劑在高溫、低氧條件下的活性變化。
    4.生物醫學工程:生產醫用鈦合金植入物,需在嚴格無菌條件下成型。
    5.考古學:考古樣品的老化實驗,模擬古代物品經歷的時間環境。
    6.藝術創作:特殊玻璃藝術品制作,利用不同氣氛下的顏色反應。

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